本公司ZXW-ZPC-120真空等離子清洗機(jī)設(shè)備采用模塊化設(shè)計(jì)，整體外形尺寸為寬1150mm×深1230mm×高2045mm（含燈塔高度），在有限占地面積內(nèi)實(shí)現(xiàn)120升反應(yīng)腔的布局優(yōu)化。反應(yīng)腔內(nèi)部尺寸為寬450mm×深465mm×高620mm，可容納12層鎖固式電極板，每層有效空間達(dá)寬390mm×深350mm×高42mm。通過2-3-4-6-12層可調(diào)式層架設(shè)計(jì)，用戶可根據(jù)工件尺寸靈活調(diào)整加工層數(shù)，兼顧單批次大容量與多品類兼容性，尤其適用于晶圓、光學(xué)鏡片及精密電子元件的批量處理。

設(shè)備搭載雙頻等離子電源系統(tǒng)，支持13.56MHz/750W與40KHz/1500W兩種模式切換。高頻模式（13.56MHz）適用于精細(xì)表面改性，可實(shí)現(xiàn)納米級污染物的準(zhǔn)確去除；低頻模式（40KHz）則強(qiáng)化了離子轟擊能量，適用于高附著力涂層的前處理。兩種模式通過智能控制系統(tǒng)無縫切換，滿足從柔性電路板到陶瓷基板的多樣化清洗需求。

真空系統(tǒng)采用油泵組（可選配干泵組），通過多級抽氣設(shè)計(jì)，可在5分鐘內(nèi)將反應(yīng)腔壓強(qiáng)降至10Pa以下，形成穩(wěn)定的等離子體激發(fā)環(huán)境。干泵組選項(xiàng)進(jìn)一步降低了油污染風(fēng)險(xiǎn)，尤其適用于半導(dǎo)體級潔凈車間。

該清洗機(jī)通過等離子體中的活性粒子（如氧自由基、氫離子）與工件表面發(fā)生物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)，可高效去除有機(jī)污染物、氧化層及微粒殘留，同時(shí)提升表面潤濕性與附著力。在半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域，其12層電極板設(shè)計(jì)可同步處理數(shù)百片晶圓，清洗效率較傳統(tǒng)設(shè)備提升30%；在光學(xué)鍍膜前處理中，42mm層高可兼容大曲率鏡片，鍍膜結(jié)合力提升50%以上。

設(shè)備內(nèi)置的智能溫控系統(tǒng)與氣體流量控制器，可實(shí)時(shí)監(jiān)測反應(yīng)腔內(nèi)溫度與氣體配比，確保清洗工藝的重復(fù)性與一致性。其模塊化設(shè)計(jì)便于后期維護(hù)與升級，為企業(yè)降低全生命周期成本提供了可靠保障。

這款真空等離子清洗機(jī)憑借緊湊的結(jié)構(gòu)、靈活的層架設(shè)計(jì)與雙頻等離子電源技術(shù)，為精密制造行業(yè)提供了高效、可靠的表面處理解決方案。無論是半導(dǎo)體晶圓的批量清洗，還是光學(xué)元件的高精度改性，均可通過參數(shù)化配置實(shí)現(xiàn)工藝優(yōu)化，助力企業(yè)突破產(chǎn)能瓶頸，提升產(chǎn)品競爭力。